在高端芯片领域，中国正加速实现国产替代。（视觉中国）

在美国商务部将中国芯片巨头中芯国际（SMIC）列入贸易黑名单之际，有消息称，中芯国际将寻求与荷兰半导体设备公司阿斯麦（ASML）就EUV（极紫外光源）光刻设备进行谈判。

据中国媒体IT之家12月18日报道，业内观察人士称，在中芯国际新任副董事长蒋尚义的帮助下，中芯国际将寻求与ASML就EUV光刻设备进行谈判，希望获取关键的EUV光刻机设备，以发展7nm以下工艺技术。

据悉，2018年4月，中芯国际曾向ASML订购了一台EUV光刻机，价值1.2亿美元，预计2019年年初交货，但最终这项交易未能达成。

报道称，中芯国际一直难以从ASML获得EUV光刻设备，尽管ASML在法律上不受某些约束条件的影响，但仍存顾虑。

12月16日，网络上流传的中芯国际执行董事及联合首席执行官（CEO）梁孟松的离职信中提到，他入职中芯国际已来，在短短两年时间攻克了14nm芯片，并将技术推向了更先进的7nm节点。目前，中芯国际28nm、14nm、12nm及n+1等技术均已进入规模量产，7nm技术的开发也已经完成，2021年4月就可以进入风险量产。

中芯国际是中国大陆规模最大、技术最先进的集成电路芯片制造企业。图为中芯国际中芯北方厂区。（多维新闻）

只待EUV光刻机的到来，就可以进入全面开发阶段。有了EUV光刻机，中芯国际也能进行3nm芯片的量产。

EUV光刻利用波长非常短的光，在硅片上形成数十亿个微小结构，构成一个芯片。与老式光刻机相比，EUV设备可以生产更小、更快、更强大的芯片。

在技术水平上，中芯国际与台积电等企业还有很大差距。图为中芯北方集成电路制造（北京）有限公司门外，中芯北方是中芯国际与北京市政府共同投资设立的12寸先进制程集成电路制造厂。（多维新闻）

目前，只有ASML能制造极紫外光刻机。据悉，三星电子（Samsung）、英特尔（Intel）和台积电（TSMC）等都采购了该公司的极紫外光刻设备。2020年4月份，调查公司Omdia表示，ASML2019年交付了26台极紫外光刻机，其中约一半面向大客户台积电。

声明：该文观点仅代表作者本人，加国头条 属于信息发布平台，加国头条 仅提供信息存储空间服务。